GPM-2-300光谱磨平机,双盘独立控制,磨盘无级调速

在金相试样制备和光谱分析应用中，试样的磨平是金相制样和光谱分析前必不可少的重要工序。GPM-2-300型光谱磨平机整机采用喷塑工艺制作，双盘独立控制，磨盘无级调速，独特罩壳设计可有效保障磨样安全，机箱内装有吸尘装置可避免环境污染，该机启动平稳、传动功率大、噪音低，可满足不同材料的制备要求，提高试样的磨抛质量和制备效率，是一种非常理想和功能完善的金相制样制备。

产品特点：

1. 无级调速控制
2. 下方配有吸尘装置，可吸走磨削物
3. 安全锁扣，1/4磨面，保护操作员

适用范围：

适用于光谱研究的试样磨平。

参数来源：GPM-2-300光谱磨平机,双盘独立控制,磨盘无级调速 https://www.bjcossim.com/p/ms/2050